一、系统概述
多晶硅还原炉体及钟罩干式清理系统适用硅烷法多晶硅生产工艺，用于还原车间反应釜中硅污染物附着力不大的工况条件下无污染干式清洗。清洗时利用上下移动和旋转机构带动高压气体喷吹以及特殊旋转刷组合机构近距离对反应釜表面进行喷吹和接触式清扫达到清洗的目的。通过清洗旋转调速机构可满足各工况的要求。清洗的同时采用特殊除尘净化器一次性进行除尘净化。
二、系统特点
1、装置为移动单元式结构；
2、净化后的空气可达到10万级的净化精度可完全在室内排放；
3、采用全封闭干式的清洗方式确保对环境不出现二次污染；
4、电气设计按隔爆的各项要求执行、 设备设有静电导出装置；
5、控制方式可为全自动或手动控制；
6、运行总功率小，噪声低。
三、清扫工艺
反应釜吊装至清洗台上→定位→连接→启动净化器→启动旋转→上下移动机构→高压气体沿壁喷吹→旋转刷至上而下接触移动清扫→净化气体置换→反应釜吊起→检查。
四、设备组成
主要由清洗平台、气体喷吹装置、吸尘输送管道、控制阀门、动力机构、清洗机构、各管道快速接头、除尘净化器、电气控制系统等组成。
主要部件采用进口零部件，确保运行可靠稳定、使用周期长。操作维修简单。
多晶硅还原炉体及钟罩干式清理系统适用硅烷法多晶硅生产工艺，用于还原车间反应釜中硅污染物附着力不大的工况条件下无污染干式清洗。清洗时利用上下移动和旋转机构带动高压气体喷吹以及特殊旋转刷组合机构近距离对反应釜表面进行喷吹和接触式清扫达到清洗的目的。通过清洗旋转调速机构可满足各工况的要求。清洗的同时采用特殊除尘净化器一次性进行除尘净化。
二、系统特点
1、装置为移动单元式结构；
2、净化后的空气可达到10万级的净化精度可完全在室内排放；
3、采用全封闭干式的清洗方式确保对环境不出现二次污染；
4、电气设计按隔爆的各项要求执行、 设备设有静电导出装置；
5、控制方式可为全自动或手动控制；
6、运行总功率小，噪声低。
三、清扫工艺
反应釜吊装至清洗台上→定位→连接→启动净化器→启动旋转→上下移动机构→高压气体沿壁喷吹→旋转刷至上而下接触移动清扫→净化气体置换→反应釜吊起→检查。
四、设备组成
主要由清洗平台、气体喷吹装置、吸尘输送管道、控制阀门、动力机构、清洗机构、各管道快速接头、除尘净化器、电气控制系统等组成。
主要部件采用进口零部件，确保运行可靠稳定、使用周期长。操作维修简单。